弗勞恩霍夫研究所開發(fā)新型微圖案化工藝

來源:投影時代 更新日期:2018-08-08 作者:pjtime資訊組

    弗蘭恩霍夫研究所(Fraunhofer FEP institute)研究人員利用電子束開發(fā)了一種新型微圖案化工藝,在硅襯底上生產(chǎn)OLED微型顯示器。這可以實現(xiàn)生產(chǎn)直接放射OLED微型顯示器的新方法,與目前使用彩色濾光片的微型顯示器相比,其將更加高效和明亮。

弗勞恩霍夫研究所開發(fā)新型微圖案化工藝

    在封裝步驟之后執(zhí)行電子束圖案化——光束穿過封裝層并且可以用于修改OLED材料的發(fā)射。為了產(chǎn)生紅綠藍像素,OLED本身的有機層通過熱電子束工藝燒蝕。

    弗勞恩霍夫研究人員曾于兩年前展示OLED照明面板的電子束圖案化。研究人員現(xiàn)在的目標是與行業(yè)合作伙伴共同開發(fā)技術,將其集成到現(xiàn)有流程中,并最終獲得許可用于生產(chǎn)。

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