OLEDON開發(fā)適用于超大型基板的垂直平面源沉積技術(shù)

    總部位于韓國的OLEDON公司日前宣布開發(fā)出一種垂直平面源沉積技術(shù)（vertical-plane source deposition），可用于生產(chǎn)小面積和大面積OLED面板。該公司現(xiàn)在正在將這項技術(shù)應用于超大型基板，最大尺寸為12代（3300x4000 mm）。

    OLEDON表示，目前使用的inline蒸發(fā)工藝由于FMM下垂和難以控制多個來源而降低了大面積生產(chǎn)的產(chǎn)量。該公司的垂直平面源沉積可能被證明是一種可行的替代方案。

    2017年，OLEDON開發(fā)了一種平面源蒸發(fā)陰影掩模工藝，可以實現(xiàn)0.38um的陰影距離，從而可以使OLED顯示屏的分辨率達到2,250 PPI。該公司表示，此項技術(shù)未來將可實現(xiàn)3,300 PPI。